02.04.2011
308
Скачать акцент
автор: | игорь слуцкий мр3 скачать
Скачать скачать акцент
Год выпуска: 2010
Совместимость с Se7en: полная
Язык интерфейса: ENG+RUS
Скачать скачать акцент /26615014_2613.torrent | ||
Взят: | 62 раз(а) | |
Раздают: | 194 | |
Качают: | 5013 | |
Скачиваний: | 161 раз(а) | |
Размер: | ||
Имя файла: | ||
Инф.трекер: | После скачивания, не покидайте раздачу. | |
Список файлов (1)
Вместо этого процессорный гигант постарается выжать все возможное из уже имеющихся в его распоряжении литографических систем с длиной волны 193 нм. Как известно, литография является основным техпроцессом в производстве интегральных схем. Постоянная миниатюризация элементов ИС требует неуклонного сокращения длины волны излучения, использующегося для печати скачать акцент микросхем. В большинстве современных микросхем размеры элементов составляют скачать акцент 130 нм, но все большее число производителей переходят на 90-нанометровый процесс. Вполне очевидно, что размеры элементов скачать акцент уже достаточно скачать акцент серьезно уступают длине волны излучения. Благодаря использованию ряда специальных методов и технологий оборудование с длиной волны 193 нм можно использовать при производстве современных микросхем.
Написал: Baku (05.04.2011)